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依田 修
Polym.Commun., 26, p.16 - 19, 1985/00
ポリ(エーテル-ケトン)(PEEK)の放射線損傷を、分子鎖方向を配向させた結晶化試料を作成して、分子鎖方向の微結晶サイズと格子歪の観点から調べた。PEEKは5000Mrad電子線照射によって結晶長を約15%減じるが、格子歪は変化しない。また、理想的2相モデルを小角散乱パターンに適用することにより、非晶相で折りたたみ鎖を含むフオルドラメラ構造をもつことが示唆された。
本橋 治彦; 古田 照夫
JAERI-M 83-132, 15 Pages, 1983/08
ジルカロイ-4管が水素・水蒸気の混合気流中、1000Cで酸化した時に生成する層状酸化膜の特性を20C~1300Cの温度でX線回折法により調べた。室温におけるX線回析図形の解析から、正方晶ZrOを含む層状酸化膜中の単斜晶ZrOは340の小さな結晶子となり0.03%の大きな格子歪を持ちそして111の格子面間隔が標準物質より0.7%大きくなっていることを明らかにした。また高温X線回折から正方晶ZrOを含む層状酸化膜中の単斜晶ZrOはゆるやに相変化を起こすことがわかった。この相変化の起こる温度は正方晶ZrOを含まない酸化膜中の単斜晶ZrOの相変化温度より低くなっている。これらの事実から正方晶ZrOを含む層状酸化膜の生成は酸化膜の結晶子の微細化と大きな格子歪か生じる事と相関性があることを明らかにした。
依田 修; 栗山 将
J.Mater.Sci., 14(7), p.1733 - 1743, 1979/00
被引用回数:13リニアポリエチレンに500Mrad以上の大量の線を照射したときの、結晶のサイズ分布と格子歪の変化をX線のプロフィル解析により調べた。微結晶のサイズ分布はラテラル方向ではある線量に達しないと変化しないのに対し分子鎖方向は照射線量と共に減少する。これは照射によってラメラ表面から架橋が生成し、微結晶を分子鎖方向から崩壊させるためと考えられる。
依田 修; 栗山 将
J.Polym.Sci.,Polym.Phys.Ed., 15(5), p.787 - 793, 1977/05
高温(100C)で圧延したポリエチレン(PZ)の[100]方向における微結晶サイズの分布と格子歪を、PZ200プロフィルの解析によって求めた。圧延比の小さな領域では、微結晶の[100]方向の破壊が起るが、圧延比の大きな領域では破壊は起らない。前報(?)の結果と併せて、圧延比の小さなところでは、微結晶の配向は、結晶内スリップによって、圧延比の大きな領域では結晶間スリップによって微結晶が配向することを明らかにした。 格子歪には、圧延による差異は認められなかった。これは変形温度が高いことによるものと思われる。
依田 修; 田村 直幸; 土井 健治
J.Mater.Sci., 11(4), p.696 - 702, 1976/04
被引用回数:10一軸延伸ポリエチレンの結晶サイズの分布と格子歪を分子鎖方向とラテラル方向の両方向について解析した。ラテラル方向において、結晶は、延伸によって細分化されるが、その崩壊の仕方は冷延伸の場合と温延伸の場合で異なり、独自の称式をもつ。分子鎖方向では、微結晶のサイズに2成分あり、それぞれの成分の全量の比は、冷延伸、温延伸のいずれの場合も保存される。格子歪は冷延伸のラテラル方向の場合を除き、いずれもストレイン型とパラクリスタル型の重ね合せで説明され、そのパラクリスタル歪の大いさは、Hosemannらの値とほぼ一致する。
依田 修; 土井 健治; 田村 直幸; 栗山 将
Journal of Applied Physics, 44(5), p.2211 - 2217, 1973/05
被引用回数:15ポリエチレン結晶の(110)面に垂直な方向の微結晶サイズの分布と格子歪を110デバイ-シエラ-線のプロフィルを解析することにより求めた。用いた試料はリニアポリエチレンの粉末、単結晶マット及び分岐度の異なる数種類のブランチポリエチレン粉末である。微結晶サイズの分布には試料に共通に100、250、350および450に極大を生じるが、分岐度の最も多い試料では350と450のピークは消失する。格子歪に関しては、ポリエチレン結晶のそれは単にパラクリスタル的ともストレインタイプともいえず、一般的には両者の重ね合せで説明できることがわかった。
土井 健治; 森 正武*
Japanese Journal of Applied Physics, 3(2), p.112 - 116, 1964/00
抄録なし
土井 健治
Acta Crystallographica, 14(8), p.830 - 834, 1961/00
被引用回数:14抄録なし